项目名称：原子层沉积系统
项目金额：EUR197500.00
用户单位：化学与材料科学学院
拟采用方式：单一来源采购
生产商名称：Picosun
供应商名称：Healthy Ascent Holdings Limited
外贸代理机构名称：安徽长和进出口有限公司
使用人及联系电话：曹瑞国 15155161445
公示期：2018年11月22日-2018年11月28日
若有异议，请在公示期内与校内采购管理部门联系：
张慧人联系电话：0551-63602345；Email:zhanghr@ustc.edu.cn
纪委举报电话：63602591 监察审计部门：63606567
采购理由：设备：原子层沉积系统 序号117 产品编码：A032103
拟采购的原子层沉积设备性能先进，适用性强。将为纳米材料、多相催化、材料化学、新能源和生命科学等新兴前沿领域提供重要的技术支撑。结合日常工作需求及使用安全等方面考虑，拟采购的原子层沉积系统需要沉积氧化物，硫化物薄膜，且能通过工艺设定生长单层，多层或纳米叠层及掺杂类薄膜。腔体应为双腔体结构，反应腔体独立安装在真空腔体内，薄膜沉积过程中，真空腔体气压大于反应腔体气压，确保化学品不会泄露到外界环境中。真空腔体外壁不用任何冷却方式即可保持温度低于60摄氏度（确保人体接触安全）。衬底与反应腔体壁能同时加热，两者都能加热到500摄氏度。反应腔体最大可沉积8英寸（200毫米）的衬底，兼容小的方形衬底及粉末容器，可用于在平板衬底、多孔衬底和粉末衬底表面沉积薄膜。衬底通过软件控制的气力升降机自动进出腔体。腔体配备压强传感器，压强极限可以到1-2mbar，压强传感器测量范围：0-1050mbar。ALD反应中，真空腔体的压强范围是7-15mbar，始终比反应腔体压强高。设备配置4条完全独立的前驱体源管路，分别对应反应腔体上完全独立的前驱体源入口，不能有任何共用管路，避免交叉污染。前驱体气体自上而下流经衬底，并且可搭载使用Showerhead喷淋器或扩散增强器等辅助沉积。
芬兰Picosun公司提供的原子层沉积系统（型号：Picosun R-200 standard ALD system）是唯一一家能满足以上实验要求的公司。该原子层沉积系统反应腔兼容性良好、双腔热壁型的独特设计及其性能优越、完全独立的源管路避免交叉污染、沉积手段多样、工艺参数监测灵敏度高、设备操作方便，安全有保障。
Healthy Ascent Holdings Limited作为芬兰Picosun公司的经销商，负责供货和售后事宜，诚信可靠，所以选择单一来源方式采购。
